Películas de barrera

I. Factores que afectan el rendimiento de las películas de empaque de barrera de óxido de silicio recubiertas de vapor

La película base de revestimiento de vapor, el método de revestimiento de vapor, las condiciones de revestimiento de vapor, así como la composición del revestimiento de revestimiento de vapor y el grosor de la capa de revestimiento de vapor pueden tener un gran impacto en el rendimiento de las películas de empaque de barrera de óxido de silicio revestidas de vapor, que pueden ser enumerados principalmente de la siguiente manera.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线

1. Selectividad del sustrato
Como se mencionó anteriormente, las propiedades de barrera de las películas de empaque de barrera de óxido de silicona depositadas por vapor dependen del recubrimiento de SiOx y, por lo tanto, el recubrimiento no puede dañarse durante el proceso de cocción por vapor.Las películas de empaque de barrera de óxido de silicona al vapor a menudo se laminan con otras películas para crear películas al vapor y la selección del sustrato de vapor debe tener en cuenta los siguientes problemas.







(1) Tipo de película plástica

La solidez de la adhesión entre la película de óxido de silicio vaporizada y la película plástica tiene una mayor relación con el tipo de película base plástica.PET, PVC y otras películas polares tienen mejor adherencia con óxido de silicio, mientras que las películas no polares, con óxido de silicio, tienen peor adherencia.



(2) Estado de la superficie de las películas plásticas



Las propiedades de barrera de las películas de empaque de barrera de óxido de silicio revestidas con vapor están influenciadas por el grosor de la capa revestida con vapor, pero en mayor medida por la uniformidad del recubrimiento de óxido de silicio.Además de la composición química y la estructura de la propia capa vaporizada, la lisura de la superficie de la película base utilizada también es un factor importante en la formación de defectos, cuanto mayor sea la rugosidad, más fácil es causar defectos de vaporización. , pero la cantidad adecuada de rugosidad permitirá la formación de un anclaje físico entre la capa vaporizada y la superficie de la película base, mejorando la adhesión entre capas.



(3) Condición de pretratamiento superficial de películas plásticas



Para obtener películas depositadas en vapor de buena calidad, es necesario un tratamiento corona superficial moderado de la película base.Después del tratamiento corona superficial, se puede formar una capa de óxido en la superficie de la película de plástico (a través de una variedad de reacciones químicas complejas, como reticulación, ozonización, carboxilación y nitroxilación, se introducen átomos y grupos atómicos como oxígeno y nitrógeno en la superficie de la película de plástico), aumentando la fuerza de unión entre la película base y el recubrimiento depositado por vapor.En el caso de ciertos equipos de pretratamiento, si el tiempo de pretratamiento es insuficiente y la modificación de la superficie no es adecuada, conducirá a una disminución en la solidez de la unión entre la película base y el recubrimiento;un tiempo de pretratamiento demasiado largo puede causar un debilitamiento de la interfaz de la película base a un nivel más profundo, produciendo una capa de interfaz débil de la propia película base, lo que también provocará una disminución en la unión entre la superficie del material base y el capa de revestimiento de vapor.
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2. El efecto de las condiciones del proceso de deposición de vapor en el rendimiento de las películas de empaque de barrera de óxido de silicio recubiertas de vapor

Independientemente de si se utiliza la deposición de vapor física o química, las condiciones del proceso de deposición de vapor pueden tener un impacto significativo en el rendimiento de las películas de embalaje de barrera de óxido de silicona depositadas por vapor, por lo que se deben establecer condiciones de proceso que conduzcan a mejorar las propiedades de barrera de las películas depositadas por vapor. utilizado siempre que sea posible.



(1) Cuando se utiliza la deposición física de vapor, la

El nivel de vacío, la temperatura de la película del sustrato, la potencia del cañón de electrones, la forma de la materia prima a vaporizar, la velocidad de introducción de oxígeno en la cámara de vacío, el espesor del recubrimiento vaporizado (determinado por la vaporización tiempo y poder de evaporación) afectan el rendimiento del producto final.



Cuanto mayor sea el nivel de vacío durante la evaporación, mejor será la evaporación de SiO2 y mayor será la calidad del revestimiento de evaporación producido.



②Cuanto mayor sea la temperatura de la película de base de plástico durante la evaporación, mejor será que el SiO evaporado se deposite en la película de base de plástico, formando una capa densa y mejorando la adhesión entre la capa de evaporación y la película de base de plástico, aumentando así la La temperatura de la película base de plástico es adecuada para mejorar la calidad de la película de evaporación.



③El uso de bombardeo con pistola de electrones, evaporación de SiO2, es apropiado usar el bloque de SiO2, porque el SiO2 en polvo en el bombardeo con pistola de electrones, fenómeno de pulverización de polvo fácil de producir, que afecta la calidad del recubrimiento de evaporación, y el SiO2 en polvo es propicio a la evaporación del calentamiento por resistencia.



Cuanto mayor es la cantidad de oxígeno, es decir, cuanto mayor es el valor de x, más se mueve la capa de vapor en la dirección de mayor transparencia, pero la barrera tiende a disminuir.Cuando x es igual a 2, se obtiene una capa de evaporación incolora y transparente con malas propiedades de barrera.x generalmente se controla entre 1,5 y 1,8 para obtener una película de óxido de silicio evaporado con propiedades de alta barrera y buena transparencia.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线



Cuando el espesor de la capa de vapor aumenta, la barrera del recubrimiento de vapor aumenta, pero cuando el espesor de la capa de vapor supera los 50 nm, la barrera del recubrimiento de vapor permanece básicamente sin cambios si el espesor de la capa de vapor aumenta aún más, por lo que no se puede esperar que mejore la barrera de la película de recubrimiento de vapor indefinidamente reduciendo la velocidad de la línea de producción (aumentando el tiempo de recubrimiento de vapor) y aumentando el espesor de la capa de vapor.



(2) la deposición química de vapor, la onda electromagnética de alta frecuencia o la selección de frecuencia de microondas deben ionizarse con la energía de ionización en la atmósfera y la energía requerida para la ionización del material vaporizado para que coincida, generalmente se selecciona la onda electromagnética de alta frecuencia 13.56 MHz, el microondas generalmente se selecciona a 2,45 MHz, el vacío en aproximadamente 10-2 Pa puede obtener un excelente efecto de deposición de vapor, mientras que la deposición física de vapor requiere un vacío mayor, es decir, 10-2 ~ 10-3 Pa o más.




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